液晶行业G3-G5基板用直立型近接曝光装置DNK大日本科研

液晶行业G3-G5基板用直立型近接曝光装置DNK大日本科研
玉崎中国总代理液晶行业G3-G5基板用直立型近接曝光装置DNK大日本科研
深圳市京都玉崎电子有限公司中国总代理DNK大日本科研液晶行业G3-G5基板用直立型近接曝光装置DNK大日本科研
中国海外担当：周英小姐13717023088
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部微粒子发生及考虑到气流的无尘对策。
主要特长：
1.直立配置掩膜台/基板台。不需补正由掩膜/掩膜台/基板台的自身重量而造成的弯曲变形,构造简单，安定性高。
2.采用新型光学系统,使影响图形转印精度的倾斜角降低至过去的一半以下(与本公司装置相比),可实现更高精度的图形转印。
3.完全分离本体与光源部。光源的热量传递不到本体,改善了本体部的热量分布水准。
4.为了防止因掩膜及玻璃基板的温度差造成的伸缩变形,可选择基板台温度控制系统及掩膜冷却系统。(选购项)
5.最大基板尺寸为1,200mm×1,400mm。通过独自的光学系统实现了均匀的一次性曝光。
6.能够装载存放5张掩膜的掩膜存放库
MA-6701ML
MA-6801ML
MA-6131ML
G3-G5代液晶面板用直立型近接曝光机